精密光學真空鍍膜機

TSV1300型精密光學真空鍍膜

TSV1500精密光學真空鍍膜

TSV2050精密光學真空鍍膜

TSV900精密光學真空鍍膜

TSV550研發(fā)專用電子束蒸發(fā)真空鍍膜

應用范圍

該設備專門為精密光學薄膜器件鍍膜生產而設計，鍍制增透膜、帶通膜和截止膜等。采用e型電子槍蒸發(fā)源，可整發(fā)各種高熔點金屬和氧化物，可在玻璃、塑料、陶瓷基體上鍍制各種多層薄膜，如：紅外膜、寬帶增透膜、分光膜、冷光膜、IR-CUT膜、干涉截止濾光片、偏振膜、電學膜，適用于眼鏡、光學鏡頭、精密光學元件、激光和電子行業(yè)的大規(guī)模工業(yè)生產。

主要特點

電子槍輸出功能穩(wěn)定，特殊結構設計有效杜絕二次電子的產生和電子槍打火。

轉動采用磁流動引入，長期運轉密封可靠。

工件轉動座多重水冷和重力導向設計，運轉平穩(wěn)可靠，徑向和軸向跳動3-5mm。

采用PLC+觸摸屏控制，多重泵閥水電